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LEICA三離子束切割儀靠三束氬離子同時轟擊樣品，把表面原子打掉，得到無劃痕、無形變的拋光面。離子束控制得好不好，直接決定平面質(zhì)量、加工速度和實驗重復(fù)性。下面把“離子束控制”拆開講，看完就明白關(guān)鍵在哪。一、離子束怎么來儀器頂部有三支離子槍，互成120°。槍里先通氬氣，燈絲電離產(chǎn)生Ar?，經(jīng)加速電場引出，形成能量可調(diào)的離子束。數(shù)值越大，濺射越快，但損傷層也厚。二、加速電壓控制電壓由高壓電源+反饋電阻網(wǎng)絡(luò)完成，精度±1V。想減少非晶層，粗拋后用3kV，再降到1kV清...

離子濺射儀靠高能離子轟擊靶材，把靶材原子“打”出來，在基片上形成薄膜。靶材必須牢固地貼在背板上，否則濺射時溫度升高會脫開。焊得好不好，直接決定設(shè)備能不能連續(xù)工作。下面用為大家介紹其常用焊接工藝：一、靶材與背板材料靶材多為純金屬或陶瓷，如銅、鋁、ITO、鎢鈦。背板用銅或鉬，導(dǎo)熱快，強(qiáng)度高。焊接前要把兩者表面車平，粗糙度Ra≤1.6μm，氧化層用砂紙或酸洗去掉，露出金屬光澤。二、釬焊（常用）釬料：銀基焊片Ag72Cu28，熔點780℃；銦基焊片熔點更低，用于陶瓷靶。步驟：1.把靶...

徠卡超薄切片機(jī)作為材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，其適配性直接影響樣本制備質(zhì)量與實驗效率。本文從樣本類型、刀具系統(tǒng)、環(huán)境條件及功能擴(kuò)展四個方面，解析該設(shè)備的多維適配特性。一、樣本適配性硬質(zhì)材料：配合鉆石刀可切削骨骼、牙齒等礦化組織。軟質(zhì)樣本：振蕩刀頭適用于腦組織、水凝膠等彈性材料，避免拖刀損傷。特殊介質(zhì)：液氮冷凍系統(tǒng)支持低溫包埋劑切片，防止脂質(zhì)樣本融化。二、刀具與夾持系統(tǒng)協(xié)同優(yōu)化1.智能刀架系統(tǒng)自動磨刀模塊維持刀刃角度精度±0.1°；刀架振動補(bǔ)償算法消除細(xì)微...

在材料科學(xué)、電子器件分析和生物醫(yī)學(xué)研究中，獲取樣品的高質(zhì)量橫截面是進(jìn)行微觀結(jié)構(gòu)分析和性能評估的前提。LEICA三離子束切割儀作為結(jié)合聚焦離子束（FIB）與掃描電子顯微鏡（SEM）的高級設(shè)備，已經(jīng)成為實現(xiàn)精準(zhǔn)、無損切割的重要工具。然而，如何利用三離子束切割儀獲得高質(zhì)量的切割截面，仍然是科研人員和工程技術(shù)人員關(guān)注的重點。一、離子束能量與電流的合理匹配三離子束切割儀通常配備三種不同能量級別的離子源：高能主束用于快速去除大塊材料，中能束用于精修表面，低能束則用于最終拋光以減少損傷層。...

鍍膜儀在眾多材料的表面處理中有著廣泛應(yīng)用，而有機(jī)玻璃作為一種常見的透明材料，人們自然也會關(guān)注鍍膜儀是否可以對其進(jìn)行鍍膜。從原理角度來看，鍍膜儀原理多樣，常見的有蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、化學(xué)氣相沉積等。對于有機(jī)玻璃而言，多種鍍膜儀是能夠開展鍍膜工作的。例如蒸發(fā)鍍膜儀，它通過加熱鍍料使其蒸發(fā)，然后讓蒸發(fā)的粒子沉積在有機(jī)玻璃表面形成薄膜。只要合理控制蒸發(fā)溫度、速率以及環(huán)境氣壓等條件，就可以在有機(jī)玻璃上實現(xiàn)鍍膜。因為有機(jī)玻璃本身具有一定的耐熱性，能夠在適當(dāng)?shù)臏囟葪l件下承受鍍料蒸發(fā)所產(chǎn)生的...

原子力顯微鏡在納米科學(xué)、材料科學(xué)等眾多領(lǐng)域都有著極為重要的應(yīng)用，而它的探針作為其中的關(guān)鍵部件，其導(dǎo)電性情況有著不容忽視的意義，以下是對探針導(dǎo)電性的詳細(xì)說明。探針的導(dǎo)電性類型多樣。從導(dǎo)電與否的角度來看，存在導(dǎo)電型和非導(dǎo)電型的區(qū)分。非導(dǎo)電型探針通常由諸如氮化硅等絕緣材料制成，主要應(yīng)用于對樣品表面形貌進(jìn)行常規(guī)的高分辨率成像，比如觀測一些絕緣的高分子材料、生物大分子等的微觀結(jié)構(gòu)，在這種情況下，并不需要探針具備導(dǎo)電功能，僅依靠探針與樣品之間的原子力作用就能完成掃描成像任務(wù)。而導(dǎo)電型探針...

在材料科學(xué)與微觀結(jié)構(gòu)研究領(lǐng)域，LEICA三離子束切割儀是一種重要的制樣工具，其離子研磨速率對制樣質(zhì)量和效率有著關(guān)鍵影響。三離子束切割儀主要通過離子束對樣品進(jìn)行逐層研磨，以獲得平整、無損傷的樣品截面，便于后續(xù)在電子顯微鏡等設(shè)備上進(jìn)行微觀結(jié)構(gòu)觀察與分析。離子研磨速率首先與離子束的能量相關(guān)。較高能量的離子束能夠更有力地撞擊樣品表面原子，使其脫離樣品本體，從而加快研磨速率。然而，離子束能量并非越高越好。過高的能量可能會對樣品造成過度損傷，引入不必要的缺陷或改變樣品的原始微觀結(jié)構(gòu)，這對...